Optische Spektroskopie an ultraviolett-emittierenden GaN / AlGaN-Heterostrukturen

Inhaltsangabe:Einleitung:
Die binären Halbleitermaterialien Aluminiumnitrid (AlN), Galliumnitrid (GaN) und Indiumnitrid (InN) bilden die Basis des Materialsystems der Gruppe III-Nitride, das ein großes Anwendungspotential insbesondere im Bereich optoelektronischer Bauelemente besitzt. Durch Legierungsbildung der binären Ausgangskomponenten lassen sich direkte Bandlücken im ausgedehnten Bereich von etwa 0.8 bis 6.1 eV bei Raumtemperatur realisieren. Dies macht die Gruppe III-Nitride zu einem vielversprechenden Kandidaten, der, im Gegensatz zu den konventionellen III-V-Halbleitern wie beispielsweise Galliumarsenid (GaAs), auch den kurzwelligen sichtbaren und den ultravioletten (UV) Spektralbereich abdeckt.
Obwohl Juza und Hahn bereits 1938 erstmals die Synthese von GaN gelang, wurde die Forschung auf diesem Gebiet lange Zeit aufgrund der schlechten Probenqualität erschwert. Erst durch Anwendung der Gasphasenepitaxie mit anfänglicher Abscheidung einer Nukleationsschicht gelang in den 1980er Jahren die Herstellung qualitativ höherwertiger Schichten. In den 1990er Jahren folgte dann eine rasante Entwicklung GaN-basierter elektronischer Bauelemente.
Bei den schon erwähnten optoelektronischen Bauelementen wurden sowohl Leuchtdioden (LEDs) als auch Laserdioden realisiert. Der Einsatz von blau- statt rot-emittierenden LDs z.B. für das Auslesen optischer Speichermedien wie DVDs verspricht eine deutliche Steigerung der Speicherdichte infolge der besseren Fokussierbarkeit des kurzwelligeren Lichtes.
Neben dem Einsatz in Lichtemittern ist das Materialsystem auch für die Herstellung von UV-Detektoren interessant. Eine unerwünschte Empfindlichkeit für sichtbares Licht kann hier aufgrund der realisierbaren hohen Bandlückenenergie ausgeschlossen werden, weshalb man auch von „solar-blind detectors“ spricht.
Eine große Bandlückenenergie verhindert neben ungewollter optischer auch thermische Generation von Überschussladungsträgern, was die Gruppe III-Nitride für Anwendungen im Bereich von Hochleistungs- und Hochtemperaturbauelementen prädestiniert.
Trotz der bemerkenswerten Erfolge bei der Herstellung GaN-basierter Bauelemente und der Vielzahl von Untersuchungen, die an diesem Materialsystem durchgeführt wurden, sind bei weitem noch nicht alle involvierten Mechanismen und fundamentalen physikalischen Eigenschaften der Gruppe III-Nitride verstanden. Da bei den meisten Anwendungen die ternären Verbindungen eine wichtige Rolle spielen, ist ein grundlegendes […]